ASML: El Avance Chino en EUV y la Respuesta Tecnológica de Intel

La empresa neerlandesa ASML se encuentra en una encrucijada tecnológica definida por dos movimientos opuestos. Por un lado, Intel acaba de instalar la máquina de litografía más avanzada del mundo, reafirmando el liderazgo de ASML. Por otro, surgen informes de que investigadores en China han logrado desarrollar un prototipo de tecnología EUV, un área donde ASML mantiene un cuasi-monopolio.

En un claro guiño al futuro de la fabricación de semiconductores, Intel Foundry ha realizado la instalación pionera de la herramienta TWINSCAN EXE:5200B de ASML. Este equipo representa la transición industrial desde la tecnología Low-NA a la High-NA EUV, marcando un hito.

Los datos operativos son elocuentes: alcanza un rendimiento de 175 obleas por hora con una precisión de superposición de 0,7 nanómetros. Intel ha optimizado drásticamente el proceso, reduciendo ciertos pasos de fabricación de 40 a menos de 10. Durante los periodos de prueba, la empresa procesó más de 30.000 obleas en un solo trimestre. El plan es iniciar la producción en volumen para su nodo 14A en el año 2027.

El Prototipo Chino: Un Logro Preliminar

Mientras tanto, desde China llega una noticia que ha captado la atención de la industria. Según informes de la agencia Reuters, un equipo de científicos en Shenzhen ha construido un prototipo de máquina de litografía EUV. Su ensamblaje se completó a principios de 2025 y actualmente está en fase de pruebas. Se sugiere que ex ingenieros de ASML habrían contribuido a replicar la tecnología mediante ingeniería inversa.

Las características clave de este desarrollo son:

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• Las dimensiones del prototipo son considerables, ocupando casi por completo una nave industrial, superando en tamaño a los sistemas comerciales de ASML.
• El objetivo declarado es lograr prototipos de chips funcionales para 2028, aunque analistas consideran 2030 una fecha más realista.
• Si bien la máquina puede generar luz EUV, aún no ha producido chips operativos.
• Los componentes ópticos críticos siguen representando un desafío técnico significativo.

La reacción de ASML ha sido cautelosa. Un portavoz señaló que "es lógico que las empresas quieran replicar nuestra tecnología, pero no es una tarea sencilla".

El Contexto Geopolítico: Presiones Comerciales

Este escenario técnico se desarrolla en medio de un creciente debate político sobre los controles a la exportación. El Congreso de Estados Unidos está presionando para imponer una prohibición integral de venta de herramientas DUVi a China. Este movimiento es relevante dado que, durante 2024, el 70% de estos sistemas se destinaron a compradores chinos. Para sortear limitaciones, los fabricantes de chips en China están utilizando tecnología de inmersión Deep-Ultraviolet más antigua, combinada con técnicas de multipatterning, para producir chips cercanos a la vanguardia.

Perspectivas de Mercado y Valoración

La cotización de la acción de ASML ha experimentado un repunte de aproximadamente un 51% desde el inicio del año, y casi se ha duplicado en el horizonte de los últimos tres años. Sin embargo, el consenso entre los analistas no es unánime.

Morningstar mantiene una valoración justa en 850 euros por acción. Por su parte, Bank of America ha revisado recientemente al alza su precio objetivo, situándolo en 1.331 dólares.

Los expertos subrayan que existe un abismo entre un prototipo de laboratorio y una producción comercial viable y estable. Una fábrica de chips moderna requiere entre 10 y 20 máquinas EUV con una disponibilidad superior al 99%, un estándar que, según las estimaciones, China no alcanzará en varios años. La propia ASML proyecta que el mercado chino representará alrededor del 20% de sus ventas de sistemas para 2030, una cifra inferior al 30-40% registrado entre 2023 y 2025.

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